Top Markets
Coin of the day
Hoshine Silicon Industry Co., Ltd. Hoshine Silicon Industry Co., Ltd.

Hoshine Silicon Industry Co., Ltd.

603260
Rang in aandelen #3227
Hoshine Silicon Industry Co., Ltd. specializes in the manufacturing and... Hoshine Silicon Industry Co., Ltd. specializes in the manufacturing and worldwide distribution of materials derived from silicon. The company's product line features various forms of silicon metal, including its powdered versions. Furthermore, Hoshine provides a broad spectrum of silicone-based offerings, such as monomers, intermediates, RTV and HTV silicone rubbers, sealants, fluids, and fumed silica. The firm also supplies graphite carbon electrodes. Founded in 2005, its primary operations are based in Pinghu, China.
Aandeelprijs
$4.95
Marktkapitalisatie
$5.86B
Verandering (1 dag)
2.95%
Verandering (1 jaar)
-33.87%
Land
CN
Handel Hoshine Silicon Industry Co., Ltd. (603260)
Operationele marge voor Hoshine Silicon Industry Co., Ltd. (603260)
Operationele marge op 2026 TTM: 0.00%
Volgens de meest recente financiële rapporten en aandelenkoers van Hoshine Silicon Industry Co., Ltd. is de huidige operationele marge (TTM) 0.00%. Eind 2026 had het bedrijf een operationele marge van 0.00%.
Geschiedenis van de operationele marge van Hoshine Silicon Industry Co., Ltd. van 2026 tot 2026
Operationele marge aan het einde van elk jaar
Jaar Operationele Marge Wijzigen
Niet genoeg gegevens voor de verstrekte datums.
Operationele marge van vergelijkbare bedrijven of concurrenten
Bedrijf Operationele Marge Verschil in operationele marge Land
25.56% -
JP
0.00% -
DE
6.22% -
TW
5.98% -
SA
-0.42% -
CN
Wat is de Operationele marge van een bedrijf?
De Operationele marge is een belangrijke indicator om de winstgevendheid van een bedrijf te beoordelen. Hogere operationele marges zijn over het algemeen beter omdat ze aangeven dat een bedrijf zijn producten of diensten veel duurder kan verkopen dan de productiekosten. De Operationele marge wordt berekend door de winst van een bedrijf te delen door de omzet.