Top Markets
Coin of the day
Tekscend Photomask Corp. Tekscend Photomask Corp.

Tekscend Photomask Corp.

429A
Helyezés a részvények között #5810
Tekscend Photomask Corp. develops, manufactures, and distributes semiconductor... Tekscend Photomask Corp. develops, manufactures, and distributes semiconductor photomasks in Japan and Internationally. The company offers photomasks for semiconductors that include binary, phase shift, EUV, and stencil masks; photomasks for various applications, such as 3D masks (gray-tone/gray-scale masks); and silicon stencil masks/molds for nanoimprint, which include quartz and silicon molds. It also develops and manufactures glass masks for various studies and development. Tekscend Photomask Corp. was formerly known as Toppan Photomask Co., Ltd. and changed its name to Tekscend Photomask Corp. in October 2024. The company was incorporated in 2021 and is based in Minato, Japan.
Részvényárfolyam
$24.43
Piaci kapitalizáció
$2.43B
Változás (1 nap)
2.74%
Változás (1 év)
-
Ország
JP
Kereskedés Tekscend Photomask Corp. (429A)

Kategória

Működési árrés a(z) Tekscend Photomask Corp. (429A) esetén
Működési árrés ekkor: 2026 TTM: 0.00%
Tekscend Photomask Corp. legfrissebb pénzügyi jelentései és részvényára alapján a jelenlegi működési árrés (TTM) 0.00%. 2026 végén a működési árrés 0.00% volt.
Működési árrés története a(z) Tekscend Photomask Corp. esetén 2026 és 2026 között
Működési árrés az év végén
Év Működési árrés Változtassa meg
Nincs elég adat a megadott dátumokhoz.
Működési árrés hasonló cégeknél vagy versenytársaknál
Vállalat Működési árrés Működési árrés különbség Ország
64.02% -
US
56.04% -
TW
43.66% -
US
65.76% -
US
68.04% -
KR
Mi az a vállalat működési árrése?
A működési árrés kulcsfontosságú mutató egy vállalat jövedelmezőségének értékeléséhez. A magasabb működési árrés általában jobb, mivel azt mutatja, hogy a vállalat a termékeit vagy szolgáltatásait jóval a gyártási költség felett tudja értékesíteni. A működési árrés úgy számítható ki, hogy a vállalat nyereségét elosztjuk a bevételével.